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Strong enhancement of critical current density in both low & high fields and flux pinning mechanism under hydrostatic pressure in optimally doped (Ba,K)Fe2As2 single crystals

机译:低场和高场中临界电流密度的强烈增强   最佳掺杂流体静压下的磁通钉扎机理   (Ba,K)Fe2as2单晶

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摘要

Strong pinning depends on the pinning force strength and number density ofeffective defects. Using hydrostatic pressure method, we demonstrate thathydrostatic pressure up to 1.2 GPa can significantly enhance flux pinning or Jcby a factor of up to 5 especially in both low and high fields in optimallydoped Ba0.6K0.4Fe2As2 crystals. Our analysis on the flux pining mechanismindicate that both pinning centre number density (Np) and pinning force (Fp)are greatly increased by the pressure and contribute to strong pinning.
机译:强钉扎取决于钉扎力强度和有效缺陷的数量密度。使用静水压力方法,我们证明了高达1.2 GPa的静水压力可以显着提高磁通钉扎或Jc达5倍,特别是在最佳掺杂的Ba0.6K0.4Fe2As2晶体的低场和高场中。我们对助焊剂钉扎机制的分析表明,钉扎中心数密度(Np)和钉扎力(Fp)都会由于压力而大大增加,并有助于牢固钉扎。

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